Пленочный фоторезист: виды, особенности применения и преимущества использования

alexxlabРазное
Что такое пленочный фоторезист. Какие виды фоторезистов существуют. Как правильно работать с пленочным фоторезистом. Для чего применяется фоторезист в электронике и других отраслях. Каковы основные преимущества использования пленочного фоторезиста.

Содержание

Что такое пленочный фоторезист и как он работает

Пленочный фоторезист — это светочувствительный полимерный материал, который под воздействием ультрафиолетового излучения меняет свои физико-химические свойства. Он состоит из трех основных слоев:

  • Защитная пленка
  • Светочувствительный слой
  • Подложка

Принцип работы фоторезиста основан на фотохимических реакциях. При облучении ультрафиолетом через фотошаблон экспонированные участки полимеризуются и становятся нерастворимыми. Неэкспонированные участки остаются растворимыми и удаляются при проявлении. Таким образом на подложке формируется рельефное изображение.

Основные виды и характеристики пленочных фоторезистов

Пленочные фоторезисты различаются по следующим основным характеристикам:


По типу получаемого изображения:

  • Позитивные — экспонированные участки растворяются при проявлении
  • Негативные — экспонированные участки остаются после проявления

По толщине пленки:

  • Тонкие (15-50 мкм)
  • Средние (50-100 мкм)
  • Толстые (более 100 мкм)

По спектральной чувствительности:

  • Ультрафиолетовые (365-450 нм)
  • Видимого диапазона (450-550 нм)

Выбор конкретного типа фоторезиста зависит от требуемого разрешения, глубины травления и других параметров технологического процесса.

Применение пленочных фоторезистов в электронике

Пленочные фоторезисты нашли широкое применение в производстве электронных компонентов и устройств:

  • Изготовление печатных плат
  • Производство полупроводниковых приборов
  • Создание интегральных микросхем
  • Формирование токопроводящих дорожек
  • Травление металлических слоев

Использование фоторезистов позволяет получать элементы с высоким разрешением вплоть до долей микрона. Это критически важно для современной микроэлектроники.

Преимущества использования пленочных фоторезистов

Пленочные фоторезисты обладают рядом важных преимуществ по сравнению с жидкими:


  • Простота нанесения на подложку
  • Высокая равномерность толщины слоя
  • Отсутствие растекания по поверхности
  • Хорошая адгезия к различным материалам
  • Устойчивость к агрессивным средам при травлении
  • Возможность получения многослойных структур

Эти свойства обеспечивают высокое качество и воспроизводимость результатов при массовом производстве электронных компонентов.

Технология работы с пленочным фоторезистом

Процесс фотолитографии с использованием пленочного фоторезиста включает следующие основные этапы:

  1. Подготовка и очистка подложки
  2. Нанесение фоторезиста ламинированием
  3. Экспонирование через фотошаблон
  4. Проявление изображения
  5. Задубливание рельефа
  6. Травление незащищенных участков
  7. Удаление фоторезиста

Каждый этап требует строгого соблюдения технологических режимов для получения качественного результата. Важно контролировать температуру, влажность, чистоту помещения и другие параметры.

Области применения пленочных фоторезистов помимо электроники

Помимо электронной промышленности, пленочные фоторезисты находят применение и в других отраслях:


  • Полиграфия — изготовление печатных форм
  • Производство дисплеев
  • Изготовление голограмм и дифракционных решеток
  • Декоративная обработка стекла и керамики
  • Производство ювелирных изделий

Универсальность технологии фотолитографии позволяет использовать ее для создания микроструктур и рельефных изображений на различных материалах.

Особенности хранения и обращения с пленочными фоторезистами

Для сохранения свойств пленочных фоторезистов необходимо соблюдать определенные правила:

  • Хранить в сухом темном месте при температуре 10-25°C
  • Защищать от прямых солнечных лучей и УФ-излучения
  • Использовать в помещении с желтым освещением
  • Не допускать резких перепадов температуры и влажности
  • Соблюдать срок годности, указанный производителем

При правильном обращении пленочные фоторезисты сохраняют свои свойства в течение длительного времени, что важно для стабильности технологического процесса.

Перспективы развития технологии пленочных фоторезистов

Дальнейшее развитие технологии пленочных фоторезистов идет по нескольким направлениям:


  • Повышение разрешающей способности до единиц нанометров
  • Расширение спектрального диапазона чувствительности
  • Улучшение адгезии к различным материалам
  • Повышение устойчивости к агрессивным средам
  • Создание многослойных композиций с заданными свойствами

Эти разработки позволят расширить возможности применения фоторезистов в нано- и микроэлектронике, а также в других высокотехнологичных отраслях.


Фоторезист пленочный 305*500мм, Для формирования электропроводящих слоёв печатных плат по негативной и позитивной технологии.

  • Главная
  • Каталог
  • Готовые изделия
  • Химия, материалы
  • Лаки, пасты, реактивы
  • org/ListItem»> Фоторезист пленочный 305*500мм

*Изображения служат только для ознакомления. См. DataSheet продукта

Ordyl Alpha 350 годен до 12.22

Для формирования электропроводящих слоёв печатных плат по негативной и позитивной технологии.

  • Ordyl_Alpha_300—350_ pdf, 225,6 кБ

Код товара: 156135

Дата обновления: 20.07.2022 11:15

  • Цена и наличие
  • Сроки доставки

Адрес доставки

Для расчета срока и стоимости доставки, пожалуйста, выберите страну/регион/населенный пункт.

— Страна —РоссияБеларусь

— Регион —

— Населенный пункт —

Доставка Фоторезист пленочный 305*500мм, Для формирования электропроводящих слоёв печатных плат по негативной и позитивной технологии. в Екатеринбург

Рассчитать доставку в Екатеринбург

Технические параметры

  • Тип упаковки

    Штучный товар

  • Нормоупаковка

    1 шт

  • Вес брутто

    36 г.

Описание Фоторезист пленочный 305*500мм

Для формирования электропроводящих слоёв печатных плат по негативной и позитивной технологии.

Хотите получить образцы?

Заказать образец

← Дихлорэтан 40 г КПТ-8 ТЕПЛОПРОВОДЯЩАЯ ПАСТА 10Г →

Фоторезист как пользоваться, как выбрать, как хранить и работать с ним

  • Какой фоторезист выбрать
  • Вопросы и ответы
  • Спектры излучения ртутных ламп
  • Воспроизводимый литографический процесс
  • Подготовка поверхности и промотирование фоторезиста
  • Адгезия фоторезиста
  • Обращенная литография
  • Аэрозольный фоторезист для мезаструктур, демонстрация возможностей аэрозольного распыления

    Под термином фоторезист понимается светочувствительная полимерная пленка, которая под воздействием света меняет свои физико-химические свойства и обладает устойчивостью к химическому или механическому воздействию.

    Развитие современной электроники, средств связи, спутников, телевидения, компьютеров невозможно представить без применения фоторезистов. Фоторезист — один из ключевых материалов микро- и радиоэлектроники.

    Необходимо различать позитивные и негативные фоторезисты. Позитивный фоторезист точно передает рисунок с оригинал — макета на подложку. Негативный фоторезист передает рисунок в обращенном виде.

    Необходимо также различать жидкие и сухие пленочные фоторезисты. Жидкий фоторезист — это раствор полимера и светочувствительного соединения в органическом растворителе. Сухой пленочный фоторезист — это «сэндвич» из трех слоев полимеров, в середине которого находится светочувствительный слой. Для получения пленки из жидкого фоторезиста необходимо его либо налить на поверхность и затем подложку привести во вращение (центрифуга), либо распылить из аэрозольной упаковки. Сухой пленочный фоторезист прикатывают к поверхности ламинатором.

    Основное различие этих двух типов фоторезистов заключается в максимально достижимом разрешении элементов изображения.

    Стандартное разрешение сухих пленочных фоторезистов — это 125-250 мкм. Поэтому основное их применение — изготовление печатных плат, в особенности многослойных печатных плат. Весь процесс изготовления печатных плат автоматизируется.

    Современные жидкие фоторезисты обеспечивают разрешение 0,35 — 0,5 микрон (процессоры Pentium III и IV). Микроэлектроника не может развиваться без совершенствования физико-химических параметров фоторезистов. Это залог успеха на рынке микроэлектроники. По этой причине о разработке фоторезиста с разрешением 0,18 микрон сообщили одновременно несколько западных фирм. Хотя и известен физический механизм работы этого фоторезиста, но состав его держится в строгом секрете.

    Помимо электроники жидкие фоторезисты широко используются:

    1. При изготовлении исходного мастер-диска — ключевого и самого дорогостоящего процесса в производстве компакт — дисков.
    2. При изготовлении исходной голографической штамп-матрицы для голографической маркировки продукции (защита от подделок)
    3. При изготовлении дифракционных решеток.
    4. При изготовлении пластин для офсетной полиграфии (копировальный слой).
    5. При изготовлении гравированных валов для полиграфии (печать на упаковках и текстильная промышленность).
    6. При изготовлении фотогравюр.

    Подробно органические светочувствительные среды для голографии описаны на сайте: http://bsfp.media-security.ru/school7/24.htm. Основным преимуществом фоторезистов в отличие от других сред для голографии, содержащих желатину (фотографические пластины, хромированная желатина), является их безусадочность, что чрезвычайно важно при голографической записи. Главный недостаток фоторезистов связан с их светочувствительностью только в ультрафиолетовой области /vibor_resist.htm.

    При изготовлении голографическими способами мастер — диска, штамп — матрицы, дифракционных решеток ранее, как правило, использовался импортный фоторезист типа AZ-1350. В настоящее время применяют фоторезисты фирмы Shipey S1813 или S1818. Однако новые отечественные фоторезисты с локальной разнотолщинностью пленки менее 10 нм и фильтрацией на уровне 0,2 мкм вполне заменяют фоторезист AZ-1350, S1813 или S1818.

    Жидкие фоторезисты незаменимы в производстве печатных плат с высокой степенью монтажа (разрешение элементов до 10 микрон), а также при изготовлении односторонних печатных плат. В последнем случае применение жидких фоторезистов удешевляет процесс, что существенно для радиолюбительской практики.

    В настоящее время любители могут изготовлять печатные платы с помощью фоторезиста в аэрозольной упаковке , с помощью заготовок печатных плат с заранее нанесенным слоем фоторезиста или пигментной бумаги. В последнем случае весь процесс изготовления печатных плат можно перенести практически в домашние условия.

    И, наконец, совокупность стадий применения фоторезистов называется фотолитографией.

    Ссылки по теме:

    • Характеристика cовременных технологий печатных плат
    		•

    Пленка для резьбы по песку | Фоторезистивная пленка

    Пленка для резьбы по песку | Фоторезистивная пленка