Что такое фоторезист и как он используется в электронике и других отраслях. Какие бывают виды фоторезистов. Как правильно работать с фоторезистивными материалами. Где применяются фоторезисты в современных технологиях.
Что такое фоторезист и его основные виды
Фоторезист представляет собой светочувствительный полимерный материал, который под воздействием света меняет свои физико-химические свойства. Он широко применяется в микроэлектронике, производстве печатных плат и других высокотехнологичных отраслях.
Различают два основных вида фоторезистов:
- Позитивные фоторезисты — точно передают рисунок с оригинал-макета на подложку
- Негативные фоторезисты — передают рисунок в обращенном виде
По форме выпуска фоторезисты бывают:
- Жидкие — раствор полимера и светочувствительного соединения в органическом растворителе
- Сухие пленочные — трехслойная структура из полимеров со светочувствительным слоем в середине
Применение фоторезистов в современных технологиях
- Производство микросхем и процессоров
- Изготовление печатных плат
- Производство компакт-дисков
- Голографическая маркировка продукции
- Изготовление дифракционных решеток
- Полиграфия (офсетная печать, гравированные валы)
Как фоторезисты применяются в этих технологиях? Рассмотрим несколько примеров:
Производство микросхем
В микроэлектронике фоторезисты используются для создания миниатюрных элементов микросхем. Современные жидкие фоторезисты обеспечивают разрешение до 0,35-0,5 микрон, что позволяет производить высокопроизводительные процессоры.
Изготовление печатных плат
Сухие пленочные фоторезисты широко применяются при производстве печатных плат, особенно многослойных. Они позволяют автоматизировать процесс и получать платы с разрешением элементов 125-250 мкм.
Производство компакт-дисков
Жидкие фоторезисты используются при изготовлении исходного мастер-диска — ключевого элемента в производстве CD и DVD. Это один из самых дорогостоящих процессов в данной технологии.
Особенности работы с различными видами фоторезистов
Процесс работы с фоторезистами включает несколько основных этапов:
- Нанесение фоторезиста на подложку
- Экспонирование (засветка) через фотошаблон
- Проявление рисунка
- Травление или металлизация
- Удаление остатков фоторезиста
Каковы особенности работы с разными видами фоторезистов? Рассмотрим основные моменты:
Жидкие фоторезисты
Наносятся с помощью центрифуги или распылением. Требуют тщательного контроля толщины слоя. Обеспечивают высокое разрешение, но более сложны в работе.
Сухие пленочные фоторезисты
Преимущества и недостатки фоторезистивных технологий
Использование фоторезистов имеет ряд важных преимуществ:
- Высокая точность и воспроизводимость рисунка
- Возможность автоматизации процессов
- Широкий диапазон разрешений (от десятков микрон до субмикронных размеров)
- Совместимость с различными технологическими процессами
Среди недостатков можно отметить:
- Чувствительность к загрязнениям и пыли
- Ограниченный срок хранения фоторезистов
- Необходимость работы в чистых помещениях
- Высокая стоимость оборудования для работы с фоторезистами
Современные тенденции в развитии фоторезистивных материалов
Развитие фоторезистов идет по пути повышения разрешающей способности и улучшения технологичности. Основные направления:
- Разработка фоторезистов для экстремальной ультрафиолетовой литографии (EUV)
- Создание многослойных резистивных систем
- Применение наноматериалов в составе фоторезистов
- Разработка экологически безопасных составов
Как эти тенденции влияют на развитие технологий? Рассмотрим несколько примеров:
Экстремальная ультрафиолетовая литография
Технология EUV позволяет получать элементы размером менее 10 нм. Для нее разрабатываются специальные высокочувствительные резисты.
Многослойные резистивные системы
Применение нескольких слоев с разными свойствами позволяет улучшить качество рисунка и расширить технологические возможности.
Выбор оптимального фоторезиста для конкретных задач
При выборе фоторезиста необходимо учитывать следующие факторы:
- Требуемое разрешение элементов
- Тип подложки и ее свойства
- Метод нанесения фоторезиста
- Совместимость с используемыми химическими процессами
- Производительность и экономические аспекты
Как правильно выбрать фоторезист? Рассмотрим несколько типичных ситуаций:
Производство печатных плат
Для крупносерийного производства многослойных печатных плат оптимальным выбором будут сухие пленочные фоторезисты. Они обеспечивают достаточное разрешение и высокую производительность.
Микроэлектроника
При производстве современных микросхем требуется высокое разрешение. Здесь применяются специализированные жидкие фоторезисты для субмикронной литографии.
Техника безопасности при работе с фоторезистами
Работа с фоторезистами требует соблюдения определенных правил безопасности:
- Использование средств индивидуальной защиты (перчатки, очки, респиратор)
- Работа в хорошо вентилируемом помещении
- Соблюдение правил хранения и утилизации химических веществ
- Регулярный медицинский контроль персонала
Почему так важно соблюдать эти правила? Рассмотрим основные риски:
Воздействие на организм
Многие компоненты фоторезистов являются токсичными и могут вызывать аллергические реакции при контакте с кожей или вдыхании паров.
Пожароопасность
Некоторые растворители, используемые в составе фоторезистов, легковоспламеняемы. Необходимо соблюдать правила пожарной безопасности.
Перспективы развития фоторезистивных технологий
Фоторезистивные технологии продолжают активно развиваться. Основные направления:
- Дальнейшее повышение разрешающей способности
- Разработка резистов для новых литографических процессов (например, нанопечатная литография)
- Создание «умных» фоторезистов с программируемыми свойствами
- Расширение областей применения фоторезистивных технологий
Какие перспективы открывают эти направления? Рассмотрим несколько примеров:
Наноэлектроника
Развитие фоторезистов с высоким разрешением позволит создавать еще более компактные и производительные электронные устройства.
«Умные» материалы
Фоторезисты с программируемыми свойствами могут найти применение в создании адаптивных оптических элементов, систем доставки лекарств и других инновационных областях.
Под термином фоторезист понимается светочувствительная полимерная пленка, которая под воздействием света меняет свои физико-химические свойства и обладает устойчивостью к химическому или механическому воздействию. Развитие современной электроники, средств связи, спутников, телевидения, компьютеров невозможно представить без применения фоторезистов. Фоторезист — один из ключевых материалов микро- и радиоэлектроники. Необходимо различать позитивные и негативные фоторезисты. Позитивный фоторезист точно передает рисунок с оригинал — макета на подложку. Негативный фоторезист передает рисунок в обращенном виде. Необходимо также различать жидкие и сухие пленочные фоторезисты. Жидкий фоторезист — это раствор полимера и светочувствительного соединения в органическом растворителе. Сухой пленочный фоторезист — это «сэндвич» из трех слоев полимеров, в середине которого находится светочувствительный слой. Для получения пленки из жидкого фоторезиста необходимо его либо налить на поверхность и затем подложку привести во вращение (центрифуга), либо распылить из аэрозольной упаковки. Сухой пленочный фоторезист прикатывают к поверхности ламинатором. Основное различие этих двух типов фоторезистов заключается в максимально достижимом разрешении элементов изображения. Стандартное разрешение сухих пленочных фоторезистов — это 125-250 мкм. Поэтому основное их применение — изготовление печатных плат, в особенности многослойных печатных плат. Весь процесс изготовления печатных плат автоматизируется. Современные жидкие фоторезисты обеспечивают разрешение 0,35 — 0,5 микрон (процессоры Pentium III и IV). Микроэлектроника не может развиваться без совершенствования физико-химических параметров фоторезистов. Это залог успеха на рынке микроэлектроники. По этой причине о разработке фоторезиста с разрешением 0,18 микрон сообщили одновременно несколько западных фирм. Хотя и известен физический механизм работы этого фоторезиста, но состав его держится в строгом секрете. Помимо электроники жидкие фоторезисты широко используются:
Подробно органические светочувствительные среды
для голографии описаны на сайте: При изготовлении голографическими способами мастер — диска, штамп — матрицы, дифракционных решеток ранее, как правило, использовался импортный фоторезист типа AZ-1350. В настоящее время применяют фоторезисты фирмы Shipey S1813 или S1818. Однако новые отечественные фоторезисты с локальной разнотолщинностью пленки менее 10 нм и фильтрацией на уровне 0,2 мкм вполне заменяют фоторезист AZ-1350, S1813 или S1818. Жидкие фоторезисты незаменимы в производстве печатных плат с высокой степенью монтажа (разрешение элементов до 10 микрон), а также при изготовлении односторонних печатных плат. В последнем случае применение жидких фоторезистов удешевляет процесс, что существенно для радиолюбительской практики. В настоящее время любители могут изготовлять печатные платы с помощью фоторезиста в аэрозольной упаковке , с помощью заготовок печатных плат с заранее нанесенным слоем фоторезиста или пигментной бумаги. В последнем случае весь процесс изготовления печатных плат можно перенести практически в домашние условия. И, наконец, совокупность стадий применения фоторезистов называется фотолитографией. Ссылки по теме:
|
||
Изготовление печатных плат с помощью фоторезиста
В интернете есть множество статей по методам изготовления печатных плат. На сегодня популярным методом изготовления печатных плат в домашних условиях является ЛУТ (с помощью лазерного принтера и утюга). Однако сегодня хотелось бы поделиться методикой изготовления печатных плат ещё одним методом — с помощью фоторезиста. На эту тему написано уже много, но есть желание поделиться своим опытом.
Что нам нужно:
- Фоторезист пленочный негативный (например в AliExpress)
- ПК и рисовалка печатных плат (как вариант SL5-SL6)
- Прозрачная пленка для струйного или лазерного принтера (например такая)
- Принтер (для соответствующей пленки — у кого какой)
- Фольгированный стеклотекстолит
- Бумага (обыкновенная) и стирательная резинка
- Острый предмет (иголка, скальпель и т.п.)
- Ультрафиолетовая лампа
- Кальцинированная сода (пищевая не подойдет)
- Ровные руки
Итак, пленочный негативный фоторезист являет собой полимерный светочувствительный материал, покрытый с обеих сторон тонкой защитной пленкой (такой бутерброд на рис. 1). Воздействие света на него либо разрушает полимер (позитивный фоторезист), или, наоборот, вызывает его полимеризацию и понижает его растворимость в специальном растворителе (негативный фоторезист). При последующей обработке происходит травление в «окнах», образованных засвеченными (позитивный фоторезист) или не засвеченными (негативный фоторезист) участками полимера.
Например, имеется готовая разводка некого девайса (пусть в SL6):
Для изготовления печатной платы необходимо сначала изготовить фотошаблон для фоторезиста. Для этого:
- лезем в меню «Файл»->»Печать»
- отключаем печать ненужных слоев
- масштаб 1:1
- и ставим галку «Негатив» (если забыли поставить и пустили в печать на принтер — придется перепечатывать)!!!
- на прозрачную пленку нужно выбросить побольше краски. Поэтому, лезем в настройки принтера и выставляем:
- качество печати: очень высокое
- тип печати: черно-белый
- если есть другие настройки — смотрим сами
Еще раз проверяем п. 2-4 и посылаем шаблон на печать (см. рисунки ниже).
После – проверяем наш шаблон на прозрачность – рисунок должен быть четким и не просвечиваться (если сквозь него все видно – плохо дело – можно пустить его еще раз на печать или напечатать новый (изменив настройки печать принтера))
Вот результат:
А пока наш шаблон подсыхает (не оставляйте на нем свои отпечатки), подготовим основу для нанесения фоторезиста — фольгу текстолита. Для этого, медное покрытие текстолита надо зачистить и обезжирить: берем нужного размера текстолит и протираем медный слой стирательной резинкой, дабы удалить грязь с меди. Всё, трогать пальцами эту часть текстолита НЕЛЬЗЯ! Чтобы на фольге не осталось частиц резинки и снова не замазать ее жирными руками, медь стоит чуть полирнуть до блеска бумагой (но НЕ НАЖДАЧНОЙ!).
Далее берем наш фоторезист (тот, который рулончик). Отрезаем нужный кусок и прячем рулон куда подальше от света (иначе – со временем может засветиться и целый рулон пропадет). Нужно НЕМНОГО подцепить матовую защитною пленку (она находиться с внутренней стороны рулона см. рис.) с помощью иголки, например.
Не трогайте пальцами той части фоторезиста, с которой сдираем пленку, иначе он не прилипнет к меди.
Теперь легким движением руки прикладываем фоторезист к плате, прижимаем и постепенно снимаем матовую пленку (фото). Аккуратно разглаживаем все это дело (фоторезист должен прилипнуть весь и чтоб без пузырьков и т. п., после разглаживания плату можно положить между страницами книги и крепко прижать)
Пока мы лепили фоторезист к меди, наш фотошаблон успел высохнуть (надеюсь). Теперь прикладываем его к плате с фоторезистом (стороной, где напечатано, к фоторезисту – если печатали не зеркальный шаблон). Выравниваем шаблон по краям платы и кладем на него стекло (шаблон должен быть плотно прижат к плате, иначе может засветиться то, что не должно засвечиваться)
Теперь ставим ультрафиолетовую лампу на уровне 10-15 см над платой и засвечиваем наш фоторезист приблизительно на 7 минут.
Снимаем фотошаблон и сдираем прозрачную пленку с платы (фоторезиста). Эту операцию нужно проводить аккуратно, чтобы не содрать и сам фоторезист с платы.
Теперь нужно проявить наш фоторезист. Для этого замачиваем нашу плату в растворе кальцинированной соды на 30 секунд. Легкими движениями зубной щетки по поверхности платы смываем остатки не засвеченного фоторезиста (при этом окунаем плату в раствор соды). Когда будет четко видна медь, промываем плату обычной водой и пусть просыхает.
Какие могут возникнуть проблемы?
Если остается фоторезист, там, где его быть не должно, значит:
- Либо пересветили ультрафиолетом,
- Либо сделали плохой фотошаблон и через него ультрафиолет засвечивал все
- Фотошаблон плохо был прижат к фоторезисту (в этом случае дорожки могу быть шире нужного)
Если при проявке фоторезиста сдираются сами дорожки, то:
- Фоторезист плохо пристал к меди -> медь плохо подготовлена (жирная, грязная и т. п. или фоторезист битый (у меня такого не было, но всякое может быть))
- Нужно ЛЕГЧЕ тереть зубной щеткой
- Передержали плату в воде (растворе) – фоторезист ведь к меди не на суперклей клеился.
Ну и если фоторезист при проявке смывается полностью – значит недосветили УФ лампой
А далее все как по сценарию: хлорное железо…вытравливаем…смываем остатки железа…фоторезист можно снять ножом, а можно и растворителем (что есть гораздо легче), а можно оставить как защитное покрытие дорожек (если можно так выразиться).
С первого раза может выйти кривовато, но с практикой – приходит мастерство. Удачи!
Теги:
- Sprint-Layout
Сухой пленочный фоторезист
- Дом
- Материалы для печатных плат
- Материалы для визуализации цепей
- Сухой пленочный фоторезист
Сухие пленочные фоторезисты Riston® для более сложных плат Denser
Сухие пленочные фоторезисты DuPont™ Riston® произвели революцию в способах изготовления печатных плат, когда они были изобретены компанией DuPont 40 лет назад.
Оригинальный сухой пленочный фоторезист, изобретенный DuPont, является отраслевым стандартом благодаря высокому выходу, производительности и простоте использования во всех приложениях для обработки изображений. Продукция DuPont™ Riston® отвечает отраслевым требованиям в отношении более тонких характеристик, более высокого качества и более низкой стоимости для всех типов гальванопокрытий и травления.
Материалы для визуализации печатных плат
- Сухой пленочный фоторезист
Сухой пленочный фоторезист
Используется для нанесения покрытий, нанесения покрытий, щелочного травления или внутренних слоев.
- Сухой пленочный фоторезист Riston® EtchMaster
Сухой пленочный фоторезист Riston® EtchMaster специально разработан как пленка для кислотного травления, обеспечивающая высокую производительность при работе с тонкими линиями. Эти фоторезисты обеспечивают превосходную конформацию при сухом ламинировании и обладают широкими возможностями экспонирования, проявления и зачистки.
- Сухой пленочный фоторезист Riston® FX
Компания DuPont разработала серию фоторезистов Riston® FX, чтобы помочь изготовителям решать задачи получения тонких линий с высокой производительностью.
- Сухой фоторезист серии Riston® GoldMaster
Riston® GoldMaster представляет собой полностью водный резист, упрощающий изготовление печатных плат со специальным золотым или никелированным покрытием
- Сухой пленочный фоторезист Riston® Laser Series
Сверхвысокая скорость фотосъемки, высокая производительность и совместимость с традиционными процессами печатных плат (PWB) имеют решающее значение, помогая производителям печатных плат оптимизировать свои инвестиции в оборудование LDI.
- Riston® MultiMaster Series Сухая пленка Фоторезист
Серия DuPont™ Riston® MultiMaster упрощает производственные операции, устраняя необходимость в различных пленках на вашей производственной линии.
- Сухой пленочный фоторезист серии Riston® PlateMaster
Riston® PlateMaster был разработан для достижения стабильно высоких выходов путем обеспечения выдающейся однородности линий покрытия, разрешения тонких линий и широкого допуска поверхности при прямой металлизации и пластинах.
- Сухой пленочный фоторезист серии Riston® TentMaster
DuPont™ Riston® TentMaster обеспечивает превосходную способность к натяжению, выдающуюся форму, отличное разрешение и замечательную устойчивость к бесконтактному воздействию.
- Технология влажного ламинирования Riston® YieldMaster®
Технология YieldMaster® обеспечивает оптимальную производительность за счет использования специально разработанной системы ламинирования тонкого резиста
- Субстраты ИС
IC Substrates
Решения для меднения субстратов во всех типах усовершенствованных корпусов.
- Сухой пленочный фоторезист Riston® DI6100
Усовершенствованный фоторезист для прямого формирования тонких линий для нанесения на подложку ИС
- Межсоединение высокой плотности
Межсоединение высокой плотности
Наше высококонформное медное покрытие обеспечит хорошую работу любой конструкции HDI.
- Riston® DI6100 Сухой пленочный фоторезист
Фоторезист для прямой визуализации Fine line для применения HDI mSAP
- Сухой пленочный фоторезист Riston® серии DI9000 и DI8600
Усовершенствованный сухой пленочный фоторезист для тонких линий HDI
- Расширенный пакет
Расширенный пакет
Усовершенствованное решение для обработки высоких медных столбов в передовых упаковочных приложениях.
- Riston® WBR3000 Сухой пленочный фоторезист
Усовершенствованное решение для процесса высоких медных столбов в усовершенствованной упаковке
Пленка для резьбы по песку | Фоторезистивная пленка
Пленка для резьбы по песку | Фоторезистивная пленкаМеню
Подготовка в 3 простых шага
Нанесите фотомаску на чистую от пыли и мусора область, где вы хотите вытравить изображение.
Используйте пластиковый ракель и надавите, чтобы прикрепить фотошаблон к подложке.
Снимите прозрачную подкладку с маски. Это делается для сохранения целостности маскировки и изображения.
Готово! Теперь вы готовы к пескоструйной обработке.
Фоторезистивная пленка SR2000™ для пескоструйной обработки
Запатентованная антипригарная поверхность SR2000™ упрощает обработку, не ограничивая возможности вырезания мелких деталей и гравировки на различных материалах. SR2000™ является предпочтительной фоторезистивной пленкой, когда для крепления фотомаски к подложке требуется высокая липкость. Эта связка с высокой липкостью идеально подходит для металла с порошковым покрытием, дерева, неполированных, пористых и неровных поверхностей из натурального камня.
Фоторезистивная пленка SR2000™ долговечна и выдерживает струйную очистку под высоким давлением с использованием грубого абразива.
Фоторезистивная пленка SR2000™ толщиной 5 и 6 мил идеально подходит для металла, металла с порошковым покрытием, акрила и дерева.
f
Фоторезистивная пленка SR2000™ толщиной 6 и 9 мил идеальна для натурального камня и неровных поверхностей. Глубокая пескоструйная обработка гранита, кирпича, брусчатки, плитки и всех каменных материалов.
Купить
Время экспонирования мало для фоторезистивной пленки SR2000™. Процесс промывки оптимизирован для максимальной эффективности. Обеспечьте готовую к использованию маску быстро.
Пескоструйная обработка деталей из натурального камня. Резьба от умеренной до глубокой достигается с помощью фоторезистивной пленки SR2000™ 5, 6 и 9 мил.
R
Определите прочность соединения для проекта. Нанесите клей RZ2 кистью на трафарет фотомаски. Клей RZ2 обеспечивает сильную липкость трафарета фоторезиста для приклеивания к неполированным поверхностям или агрессивной пескоструйной очистке. Также доступен аэрозольный клей RZ3.
ЛАЗЕР дизайн. Нанесите пленку LazerMask™ Sandcarving на подложку и лазер. Лазер создаст трафарет для резьбы по песку.
CARVE изделие для глубины с оксидом алюминия или карбидом кремния зернистостью 120-150 рекомендуется использовать с пленкой LazerMask™. Давление пескоструйной обработки 20-50 фунтов на квадратный дюйм для достижения наилучших результатов. Оставьте трафарет LazerMask™ включенным и добавьте дополнительную заливку краской.
СОЗДАЙТЕ красивых предметов, вырезанных из песка, таких как бутылки для спиртных напитков, хрустальные награды, материалы из камня и дерева, используя пленку LazerMask™.
Купить сейчас
LazerMask™ — это чрезвычайно прочная пленка для обработки песка, предназначенная для использования с лазером C02 или YAG. Пленка покрыта клеем с высокой липкостью для превосходной прочности сцепления. LazerMask™ также известен как лазерная маска или пленка для лазерной ленты.
Пленка LazerMask™ Sandcarving имеет слой клея с высокой липкостью для превосходной прочности сцепления.